清潔度萃取設(shè)備是一種用于分離和提純化合物的技術(shù)，其發(fā)展歷程如下:

　　1.1869年:法國化學家馬修斯韋斯特發(fā)明了工業(yè)使用的溶劑萃取裝置，用于從動植物中提取植物油。

　　2.20世紀20年代:石油I業(yè)的發(fā)展促使了溶劑萃取技術(shù)的進一步研究。該技術(shù)被應用于石油加工中的脫蠟和脫硫等過程。

　　3.20世紀30年代至40年代:隨著化學I業(yè)的發(fā)展，溶劑萃取技術(shù)得到了廣泛應用，用于分離和純化化學品、藥物和天然產(chǎn)物。

　　4.20世紀50年代至60年代:新型溶劑系統(tǒng)的引入(如液液萃取和固相萃取)進一步改進了萃取設(shè)備的效率和選擇性。

　　5.20世紀70年代至80年代:超臨界流體萃取(SFE)技術(shù)的出現(xiàn)推動了清潔度萃取設(shè)備的發(fā)展。SFE利用具有高溶解力和可調(diào)節(jié)性的超臨界流體作為萃取劑，逐漸被應用于環(huán)境、食品和制藥領(lǐng)域。

　　6.20世紀90年代至今:隨著納米技術(shù)和材料科學的發(fā)展,新型納米材料的合成和純化需要更高效、更精確的萃取設(shè)備。同時，綠色化學和可持續(xù)發(fā)展的要求也推動了萃取技術(shù)的改進和創(chuàng)新。

　　清潔度萃取設(shè)備是一種用于清潔過程中提取雜質(zhì)和污染物的設(shè)備?？蓱糜诙鄠€領(lǐng)域，例如工業(yè)清洗、環(huán)境監(jiān)測和實驗室分析等，以去除或提取樣品中的污染物，并獲得所需的清潔度水平。它通常包括以下幾個主要組成部分:

　　1.萃取劑:萃取劑是用于從待清潔物表面提取污染物的化學物質(zhì)。常用的萃取劑包括溶劑、酸或堿等。

　　2.萃取槽:萃取槽是放置待清潔物的容器，其中包含萃取劑。待清潔物與萃取劑接觸后，污染物會被提取到萃取劑中。

　　3.攪拌裝置:攪拌裝置用于促進待清潔物與萃取劑的混合和接觸，以增強萃取效果。

　　4.分離裝置:分離裝置用于將萃取劑與提取的污染物分離開來，通常使用離心分離、過濾或蒸餾等方法進行分離。

　　5.控制系統(tǒng):控制系統(tǒng)用于監(jiān)測和控制整個清潔過程，包括溫度、壓力、攪拌速度等參數(shù)的調(diào)節(jié)，以確保清潔效果和安全操作。